JIS R3252:1994 pdfダウンロード

JIS R3252:1994 pdfダウンロード。ガラスのレーザ干渉法による 均質度の測定方法 Measuring method for the homogeneity of glasses by laser interferometry
1. 適用範囲
この規格は，レーザ干渉法によるガラスの屈折率の均質度の測定方法について規定する。
備考 この規格の引用規格を，次に示す。
JIS Z 8401 数値の丸め方
JIS Z 8703 試験場所の標準状態
2. 用語の定義 この規格で用いる主な用語の定義は，次のとおりとする。
(1) ガラスの屈折率の均質度 単一ガラス試料の中の定められた範囲内における屈折率の変化量のうち，線形変化分を除いた屈折率変化量の最大値。
(2) 屈折率整合液 試料ガラスの屈折率と同一か又は非常に近い屈折率をもつ透明の液体。屈折率はレーザの波長における値とする。
(3) 平面度補正板 均質度の良い光学ガラスを高精度（例えば，レーザ波長の20分の1）に研磨した平行平面板。試料の平面度を補正するために，試料に屈折率整合液を中間液としてはり合わせて使用する。
(4) 波面のPV値 干渉計で光が試料を1回透過したときに観測される波面の，近似した平面に対する偏差の最大値と最小値の差。
3. 原理 レーザ干渉計を用いて，平面度の良い試料を透過した光束の波面のPV値を測定し，試料の屈折率の均質度を求める。
4. 測定装置 装置は，レーザ干渉計，干渉像解析装置，測定試料系，除振装置，恒温室などから構成し，次のとおりとする（図1参照）。
(1) レーザ干渉計 レーザを光源とし，光束の波面が平面を成す光学系をもつものを用いる。干渉計については，附属書にその例を示す。
(2) 干渉像解析装置 干渉像から波面のPV値を求めることができるものを用いる。
(3) 恒温室 干渉計及び試料系をJIS Z 8703に規定する標準状態の温度のある一点の温度に保つために使用する。温度制御は±0.5℃以内（温度0.5級）にすることが望ましい。
(4) 除振装置 干渉計及び試料系への外界からの振動の影響を除くことができるものを用いる。高精度測定のためには備えるほうがよい。
5. 試料の調製 試料は，円柱状又は角柱状とし，その厚さ（高さ）方向を観測する方向（干渉計の光束の光軸方向）とする。観測方向の厚さは，正確な測定値を得るために十分な厚さのものとする。 試料の両端面（光軸に垂直となる面）をレーザ波長の20分の1（波長が632.8nmの場合，約0.032μm）以下の平面度に研磨する。 上記の精密研磨を行わない場合は，平面度補正板を屈折率整合液を中間液として試料にはり合わせて測定に用いる。平面度補正板を用いる方法については，附属書にその例を示す。このとき，屈折率整合液と試料の屈折率は，均質度測定に影響を与えないために一致させることが望ましい。 また，試料と平面度補正板を屈折率整合液で安定にはり合わせるため，試料の平面度はおよそ20μm以下にするのがよい。
6. 操作 操作は，次のとおりとする。
(1) 測定試料系の準備 試料表面の汚れを取り除き，測定環境と同じ温度の場所で十分な時間放置し，試料の温度を測定環境の温度に合わせるとともに，試料内の温度を均一にする。
平面度補正板を使用する場合は，平面度補正板の表面の汚れを取り除き，屈折率整合液，試料とともに上記と同じ条件下に置く。
(2) 測定試料系の設置 試料の定められた範囲が干渉計の光束に入るように，試料を干渉計に設置する。 平面度補正板を使用する場合は，試料の表面に屈折率整合液を挟みながら，平面度補正板をはり合わせる。このとき，はり合わせ面に気泡が入らないようにする。
(3) 測定の準備 設置された測定試料系は，測定環境の温度に戻るまで放置する。 平面度補正板を使用する場合は，はり合わせ面の屈折率整合液の層の厚さが変化しなくなるまで放置する。
(4) 測定の操作 干渉像の干渉じま（縞）を適切な本数となるように干渉計の光学系を調整し，測定する。
(5) 解析の操作 干渉像から，測定試料系を透過した光束の波面のPV値を求める。