JIS K0133:2007 pdfダウンロード。高周波プラズマ質量分析通則 General rules for high frequency plasma mass spectrometry 1 適用範囲 この規格は高周波プラズマ質量分析計を用いて測定対象元素の定性分析定量分析及び同位体比測定を行う場合の通則について規定する。 2 引用規格 次に掲げる規格はこの規格に引用されることによってこの規格の規定の一部を構成する。これらの引用規格はその最新版追補を含む。を適用する。 JIS B 9920 クリーンルームの空気清浄度の評価方法 JIS K 0116 発光分光分析通則 JIS K 0211 分析化学用語基礎部門 JIS K 0215 分析化学用語分析機器部門 JIS K 0553 超純水中の金属元素試験方法 JIS K 0557 用水・排水の試験に用いる水 JIS Z 8402-1 測定方法及び測定結果の精確さ真度及び精度− 第 1 部一般的な原理及び定義 JIS Z 8402-2 測定方法及び測定結果の精確さ真度及び精度− 第 2 部標準測定方法の併行精度及び再現精度を求めるための基本的方法 3 用語及び定義 この規格で用いる主な用語の定義はJIS K 0116JIS K 0211JIS K 0215JIS Z 8402-1 及び JIS Z8402-2によるほか次による。 なお括弧内の対応英語は参考のために示す。 3.1 高周波プラズマ (high frequency plasma) ラジオ波領域の高周波電力を誘導結合させて発生する誘導結合プラズマICP及びマイクロ波領域の高周波電力によって誘導されて発生するマイクロ波誘導プラズマMIP。 3.2 高周波プラズマ質量分析計 (high frequency plasma mass spectrometer) 試料に含まれる測定対象元素を高周波プラズマによってイオン化し生成したイオンを質量分析計に導入し測定対象元素の質量/電荷数m/zにおけるイオンの個数を測定することによって元素又は同位体を分析する装置。 3.3 イオン化部 (ionization source) 測定対象元素をイオン化するための高エネルギー源である高周波プラズマ及び高周波プラズマに電気エネルギーを供給するための電源から構成する部分。 3.4 インターフェース部 (interface) 大気圧の高周波プラズマ中で生成したイオンを高真空状態の質量分析計に効率よく導入するために差動排気されたサンプリングコーンスキマーコーンなどから構成する部分。 3.5 質量分離部 (mass separator) イオンを電場及び又は磁場の中を通過させることによって質量/電荷数m/zの値に応じて分離する部分。 3.6 スペクトル干渉...